Einfach ausgedrückt soll der Halbleiter (daher auch der Namen) halb leiten und halb sperren. Erst die Ladungsunterschiede ermöglichen eine logische Schaltung.
Das ist eine etwas eigenartige Definition eines Halbleiters.
Richtig ist: Bei einem Leiter nimmt die Leitfähigkeit mit steigender Temperatur ab, bei einem Halbleiter zu.
Ein dotierter Halbleiter hat einen Temperaturbereich, in dem er halbleitend ist. Darunter ist er ein Nichtleiter und darüber ein Leiter. Zumeist haben Halbleiter eine kovalente Bindung und ein Diamantgitter (Elementhalbleiter Diamant, Silizium, Germanium). Das Diamantgitter besteht aus 2 ineinander verschränkten kubisch-flächenzentrierten Gittern. Verbindungshalbleiter haben meist eine ähnliche Struktur wie ein Diamantgitter, nur ist eine kubisch-flächenzentrierte "Subgitter" mit dem ersten Element und das 2. Subgitter mit dem 2. Element besetzt. "Schaltbare" Halbleiter entstehen erst durch die Dotierung mit 3- bzw. 5-wertigen Elementen. Ohne Dotierung ist ein Halbleiter nur ein temperaturabhängiger Widerstand (Heißleiter).
Aus dieser Struktur erklären sich die Eigenschaften der Halbleiter. Die kovalente Bindung ist sehr stark, so dass die Beweglichkeit der Elektronen extrem gering ist.
Wenn man sich nun den halbleitenden Bereich eines dotierten HL ansieht (im einfachsten Fall in Form einer Diode (Kombination eines p- und eines n-leitenden HL), dann fließen in Sperrrichtung trotzdem kleine Ströme, je höher die Temperatur, desto höhere. Diese Ströme in Sperrrichtung sind das Rauschen.
Bei einem CMOS-Transistor gibt es eine Sperrschicht aus einem Metalloxid und die Art des Metalloxids ist maßgebend für die Höhe der Ströme in Sperrrichtung und damit für das Rauschen - aber auch für die Temperaturabhängigkeit des Rauschens.
Silizium hat eine untere Grenze des halbleitenden Bereiches von ca. minus 20 bis minus 25 °C. Darunter ist Silizium ein Nichtleiter. Mit der Dotierung kann man diese untere Grenze etwas verschieben. Weil es in ******* (Sibirien) vielfach kälter ist, war zumindest in der Vergangenheit beim Militär keine Silizium-Elektronik, sondern Germanium-Elektronik eingesetzt worden, denn diese funktioniert ohne Aufwärmung auch bei minus 50 °C. Silizium-Elektronik muss bei diesen Temperaturen beheizt werden, damit diese funktioniert.
Eine Kühlung eines CMOS-Sensors auf Siliziumbasis unter diese Grenze führt zum zeitweiligen Totalversagen. In der Raumfahrt werden Sensoren z.T. auf knapp über den absoluten Nullpunkt gekühlt, aber das sind keine Bildsensoren auf Basis von Silizium-CMOS, sondern z.B. Sensoren, bei denen Photonen Elektronen-Loch-Paare erzeugen, die dann gezählt werden - eine völlig andere Technologie.
Der 2. Grund in der Raumfahrt besteht darin, dass ein Sensor prinzipiell nur dann messen kann, wenn er kälter ist als die Energie der zu messenden Photonen. Wie bekannt ist, hat Licht eine bestimmte Temperaturäquivalenz, einige Tausend Kelvin, und da bringt so eine extreme Kühlung nicht viel. Wenn man jedoch extrem energiearme Infrarotstrahlung messen will, dann ist deren Energieäquivalent z.B. von der Hintergrundstrahlung vom Urknall nur etwa 2 bis 3 Kelvin und da muss der Sensor auf Temperaturen darunter gekühlt werden.
Wenn man die Temperaturabhängigkeit des Rauschens von CMOS-Bildsensoren verringern will, muss man statt des Siliziumdioxids als Metalloxid z.B. Hafnium- oder Wolframoxid einsetzen. Das ist jedoch technisch viel anspruchsvoller und teurer und wird gegenwärtig vor allem bei Hochleistungsprozessoren so gemacht. Durch die Minderung des Rauschens kann man die Betriebsspannung herab setzen und damit den Stromverbrauch und es entsteht weniger Abwärme.
Bei Bildsensoren hätte es zudem den Vorteil, dass der Dynamikbereich erheblich vergrößert werden kann.